주요이력

• (1979~1983) 서울대학교, 학사
• (1983~1985) 서울대학교, 석사
• (1985~1990) Carnegie mellon university, 박사
• (1991~1999) LG 반도체, 책임연구원 (선행공정개발실장)
• (1999~2003) 서울대학교, 조교수
• (2003~2008) 서울대학교, 부교수
• (2008~) 서울대학교, 정교수

대표논문
(최소 3개, Reference 표기법으로 작성)

• Kyong Kyu Myong et al, ECS J. Solid State Sci. Technol., 12 074004 (2023)
• Myung Hyun Lee et al, Electrochim. Acta, 419 140389 (2022)
• Young Yoon et al, Electrochim. Acta, 399 139424 (2021)

연구실 소개

• < 연구실명 : 소자 공정 연구실 >
• 본 연구실에서는 김재정 교수님의 지도하에 반도체 패키징용 구리 전해도금 첨가제 개발 및 도금 기법연구, 구리 씨앗층 형성을 위한 무전해 도금법 개발과 같은 metallization 공정과 구리, 코발트 CMP 공정, post-CMP cleaning 공정에 관한 연구를 수행하고 있습니다. 이에 더해 전기화학적 촉매 제조 및 머신 러닝을 이용한 전기화학적 모니터링 방법 개발에 관한 연구도 수행 중입니다.
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주요이력

• (1991~1995) 서울대학교, 학사
• (1995~1997) 서울대학교, 석사
• (1997~2002) 서울대학교, 박사
• (2002~2004) Massachusetts Institute of Technology (MIT), 연구원
• (2004~2009) 이화여자대학교, 조교수
• (2009~) 서울대학교, 교수

대표논문
(최소 3개, Reference 표기법으로 작성)

• Ferroelectrically modulated ion dynamics in Li+ electrolyte-gated transistors for neuromorphic computing, Applied Physics Reviews 2023, 10, 011407
• Interfacial Ion-Trapping Electrolyte-Gated Transistors for High-Fidelity Neuromorphic Computing, Adv. Funct. Mater. 2022, 32, 2201048
• Implementation of Synaptic Device Using Ultraviolet Ozone Treated Water-in-Bisalt/Polymer Electrolyte-Gated Transistor, Adv. Funct. Mater. 2022, 32, 2110591

연구실 소개

• < 연구실명 : 나노 계면 소재 공정 연구실 >
• 본 연구실에서는 김연상 교수님의 지도하에 산화물 반도체, 반도체 공정, 차세대 메모리 소자, 에너지 하베스팅, 리튬 이차전지, 뉴로모픽 소자 등에 대한 연구를 수행하고 있고, 반도체 공학 기반의 지속 가능한 환경 조성을 위한 재료 선택 및 공정 개발 탐구를 같이 진행하고 있습니다.
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주요이력

• (1994~2000) 서울대학교 화학공학 학사
• (2000~2004) 플로리다 주립대학교 화학공학 박사
• (2003~2003) 미국 벨 연구소 인턴
• (2004~2006) 미국 해군 연구소 박사 후 과정
• (2006~2022) 고려대학교 화공생명공학과 교수
• (2013~2013) KIST 방문 교수
• (2019~2020) LG전자 방문 교수
• (2020~2022) 고려대학교 에너지 기술 공동 연구소 소장
• (2022~) 서울대학교 화학생물공학부 교수

대표논문
(최소 3개, Reference 표기법으로 작성)

• Selective p-Doping of 2D WSe2 via UV/Ozone Treatments and Its Application in Field-Effect-Transistors, Applied Materials & Interfaces, 2021, 13, 1, 955–961
• Recessed-Channel WSe2 Field-Effect Transistor via Self-Terminated Doping and Layer-by-Layer Etching, ACS Nano, 2022, 16, 5, 8484–8492
• 2D Amorphous GaOX Gate Dielectric for β‑Ga2O3 Field-Effect Transistors, Applied Materials & Interfaces, 2023, 15, 31, 37687–37695

연구실 소개

• < 연구실명 : 반도체 공정 및 분석 연구실 >
• 본 연구실에서는 김지현 교수님의 지도하에 기존 실리콘 반도체의 한계를 뛰어넘기 위한 다양한 차세대 반도체 공정 개발 및 분석 연구를 진행하고 있습니다. 대표적으로 2차원 물질과 산화 갈륨 소재를 다루고 있으며, 각 소재에 최적화된 신공정을 개발하여 최종적으로는 반도체소자의 성능을 극한까지 끌어올리는 것을 목표로 합니다.
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